Исследование дефектности тонкопленочного покрытия, осажденного плазменным методом
Современный подход к созданию структурно совершенных функциональных покрытий предусматривает исследование причин дефектности пленки в процессе ее формирования, управление процессом роста тонкопленочного покрытия со стабильными функциональными свойствами.
Исследование дефектности тонкопленочного покрытия проведено в филиале Пермского государственного технического университета (г. Березники) к.т.н., доц. Каменевой А.Л. под руководством начальника отдела ОАО ЦНИТИ «Техномаш», д.ф.-м.н., проф., лауреата Государственной премии СССР Самойловича М.И. Количественное исследование дефектов пленок выполнено Каменевой А.Л. на анализаторе изображений «ВидеоТесТ-Структура».
| Ввод изображения | Выделение дефекта | Результаты измерений |
 |
 |
 |
Границы дефектной пленки в виде объемной полосы четкие. Выделение произведено достаточно точно. Аналогично были исследованы все дефекты пленки. Получены статистические данные исследования.
Структура пленок исследовалась в зависимости от технологических параметров процесса формирования для установления причин дефектности пленок и получения их с необходимыми параметрами. Установлена взаимосвязь параметров технологического процесса и структурой осаждаемых пленок. Предупреждение дефектности формируемых упрочняющих пленок привело к увеличению их эффективности.